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退火处理对LaAlO3薄膜发光特性的影响
在室温下,采用射频磁控溅射法在p-Si(100)衬底上制备了铝酸镧(LaAlO3)薄膜,分别在800 ℃,900 ℃和950 ℃下进行退火处理。利用X射......
期刊
薄膜光学
射频磁控溅射
LaAlO3薄膜
退火处理
光致发光
thin-film optics
radio-frequency magnetron sputte
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